中國攻克 EUV 光刻膠難題! 近日,清華大學許華平教授團隊在EUV 光刻材料上取得重要進展,開發出一種基于聚碲氧烷(Polytelluoxane, PTeO)的新型光刻膠。光刻膠是一種對光敏感的特殊材料,將它涂在硅片表面后,光刻機負責“打光... 芯片 2025-07-25 0 620