近日，清華大學許華平教授團隊在EUV 光刻材料上取得重要進展，開發出一種基于聚碲氧烷（Polytelluoxane, PTeO）的新型光刻膠。光刻膠是一種對光敏感的特殊材料，將它涂在硅片表面后，光刻機負責“打光...